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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/20
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积制备碳薄膜产品：估价：11，规格：KRI 考夫曼射频离子源
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• Hakuto 离子蚀刻机 20 [上架时间]2021/1/19
  [摘要] hakuto牌的Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀产品：估价：11，规格：
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/18
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 NSN70 隔热膜产品：估价：11，规格：KRI 考夫曼
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/15
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积红外器件介质膜产品：估价：11，规格：KRI 考夫曼射频离
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/14
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于复合磁控溅射沉积装置产品：估价：11，规格：KRI 考夫曼
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/13
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 用于溅射沉积硅片金属薄膜产品：估价：11，规格：KRI 考夫曼射频
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/12
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜产品：估价：11，规格：考夫曼射频
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/11
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积 Cu-W 膜产品：估价：11，规格：KRI 考夫
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• Hakuto 离子蚀刻机 20 [上架时间]2021/1/8
  [摘要] Hakuto牌的Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄产品：估价：1，规格：20IBE-J ，
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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• KRI 考夫曼射频离子源 RF [上架时间]2021/1/7
  [摘要] KRI牌的KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层产品：估价：11，规格：KRI 考
  伯东企业(上海)有限公司 [未核实]
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